馬薩諸(zhu)塞州比爾(er)里卡2015年5月5日電 /美通社/ -- 美國半導體制造技術(shu)戰略(lve)聯(lian)盟(SEMATECH)和Exogenesis Corp.已經達(da)成(cheng)戰略(lve)聯(lian)盟，共同(tong)推廣Exogenesis的(de)(de)Accelerated Neutral Atom Beam（加速中性原子(zi)束(shu)，簡稱(cheng)“ANAB”）和他們的(de)(de)nAcceltm加速粒子(zi)束(shu)設備平臺。SEMATECH首席執行官兼(jian)總(zong)裁Ron Goldblatt博士表示：“芯(xin)片行業正(zheng)處(chu)于原子(zi)尺度處(chu)理時(shi)期。使用正(zheng)在開(kai)(kai)發的(de)(de)ANAB將支持(chi)更好的(de)(de)控制和更高(gao)的(de)(de)制造效率，同(tong)時(shi)為半導體裝置打開(kai)(kai)新功(gong)能(neng)。”

SEMATECH和Exogenesis將建立一個新公司(si)，為(wei)半導體行業將ANAB技術推向(xiang)市場。除(chu)了最初(chu)的關注集成電路(lu)制(zhi)造之(zhi)外(wai)，雙(shuang)方還將在(zai)其它納(na)米電子領域開發(fa)ANAB應用，這可(ke)能會形(xing)成更多公司(si)。

ANAB技(ji)術是在深度為幾(ji)納米(mi)的(de)情(qing)況下修(xiu)改和控(kong)制具有原子級控(kong)制曲(qu)面(mian)的(de)獨(du)特方法，已獲得專(zhuan)利。Exogenesis總裁兼首(shou)席執行官表示：“其(qi)它技(ji)術無法達到ANAB的(de)性能效果。”化學修(xiu)飾、材料去(qu)除與沉積(ji)、曲(qu)面(mian)光順(shun)以及表面(mian)形態控(kong)制都(dou)有可能通(tong)過(guo)ANAB平臺實現。

ANAB已經被用于對藥理(li)及生物(wu)相容(rong)性進行精確控制的(de)生物(wu)醫學領域，以(yi)及支(zhi)持更安全(quan)、有效的(de)可植入醫療設備的(de)開發。事實證明，ANAB能夠為(wei)包括玻璃、金屬、有機、半導體和(he)聚合(he)材料(liao)等各種材料(liao)界面帶來好處。

SEMATECH企(qi)業(ye)發展總監Ed Barth博士表(biao)(biao)示(shi)：“"SEMATECH和 Exogenesis自(zi)2013年(nian)以(yi)來已經作(zuo)為SEMATECH項目的(de)(de)一部分開始合作(zuo)，支(zhi)持半(ban)導體行業(ye)采(cai)用Extreme Ultraviolet Lithography(極紫外光(guang)刻(ke)技術，簡稱EUVL)。”“雙方已經展示(shi)和公布了ANAB技術在(zai)提高薄硅膜透明度方面的(de)(de)價值，可以(yi)顯(xian)著(zhu)提升EUV膜的(de)(de)性能。” Exogenesis與SEMATECH的(de)(de)其(qi)它(ta)工作(zuo)表(biao)(biao)明ANAB處理支(zhi)持EUV掩模(mo)基(ji)板的(de)(de)光(guang)順水(shui)平質量比傳統方法更卓越(yue)，提高了通過他們創(chuang)造的(de)(de)掩模(mo)坯的(de)(de)光(guang)學性能。這些結果發布于2014年(nian)。

位于紐約州(zhou)奧爾巴(ba)尼的(de)Exogenesis工廠(chang)以及NanoTech Complex of SUNY Polytechnic Institute的(de)Colleges of Nanoscale Science and Engineering (SUNY Poly CNSE)將持續進行開發工作(zuo)。因此(ci)，這(zhe)個戰略