賓夕法尼亞州夸(kua)克敦2016年(nian)(nian)3月14日(ri)電 /美通社/ -- QuantumClean和ChemTrace將參加2016年(nian)(nian)3月15日(ri)至17日(ri)在上海的(de)上海新國(guo)際博(bo)覽中心舉行的(de)2016年(nian)(nian)SEMICON China貿(mao)易展，展位號為5154號。

依托領先的技術、資源和專長，QuantumClean成為了20nm以下超高純度半導體部件清洗能力方面的開拓者，致力于生產Atomically Clean Surfaces?制程腔體部件。

該行(xing)業(ye)(ye)對(dui)于更加(jia)(jia)清(qing)潔(jie)的(de)制(zhi)(zhi)程(cheng)(cheng)腔體(ti)部(bu)件和(he)加(jia)(jia)強管理的(de)需(xu)求(qiu)不斷加(jia)(jia)速發(fa)展。QuantumClean于2000年制(zhi)(zhi)定(ding)了(le)(le)(le)其首個技術藍圖，即預測了(le)(le)(le)這些趨勢并(bing)且(qie)確定(ding)了(le)(le)(le)面向(xiang)該行(xing)業(ye)(ye)日益變化的(de)需(xu)求(qiu)的(de)解決(jue)方案。在接下來數年內，QuantumClean的(de)研發(fa)與工程(cheng)(cheng)團隊不斷提(ti)供面向(xiang)業(ye)(ye)內最(zui)具挑戰的(de)部(bu)件清(qing)洗問題的(de)創新型解決(jue)方案，從而在競爭中領先，并(bing)且(qie)該團隊近期(qi)制(zhi)(zhi)定(ding)了(le)(le)(le)20納米以下的(de)清(qing)洗協議(yi)。在參(can)加(jia)(jia)2016年Semicon China貿(mao)易(yi)展期(qi)間，該公司期(qi)待與個體(ti)設備(bei)制(zhi)(zhi)造(zao)商(shang)、晶圓廠、原(yuan)始設備(bei)制(zhi)(zhi)造(zao)商(shang)(OEM)和(he)原(yuan)部(bu)件制(zhi)(zhi)造(zao)商(shang)(OPM)分(fen)享其各種能力(li)。

面(mian)向QuantumClean眾多領先的(de)半導體實驗(yan)室(shi)、原(yuan)始設備制(zhi)造商和對清潔(jie)具有苛(ke)刻要(yao)求的(de)原(yuan)部件制(zhi)造商客戶，ChemTrace提供(gong)制(zhi)程工具部件清洗效(xiao)果的(de)獨立分(fen)析驗(yan)證服務。

ChemTrace銷售總(zong)監(jian)Surjany Russell表示：“自我(wo)們(men)于20世(shi)紀90年代末首次推(tui)出無損工具部件(jian)分(fen)(fen)析(xi)(xi)服務以來，ChemTrace的分(fen)(fen)析(xi)(xi)技術(shu)(shu)目前獲得(de)了(le)領先的設(she)備制(zhi)造商(shang)和原始(shi)設(she)備制(zhi)造商(shang)的廣泛認可，成(cheng)為了(le)分(fen)(fen)析(xi)(xi)測(ce)試(shi)技術(shu)(shu)方面的首選。我(wo)們(men)將全(quan)球業(ye)務拓展至包括(kuo)韓國(guo)、臺(tai)灣和新(xin)加(jia)坡的實驗(yan)室，這使地區(qu)客戶能直接使用我(wo)們(men)的實驗(yan)室來進行較快周轉時(shi)間的分(fen)(fen)析(xi)(xi)。”

QuantumClean和ChemTrace的技術、商務(wu)和管理團隊將參加這次(ci)展會，并且希望有機會就當前與未來的部(bu)件清洗/翻新難(nan)題和分析要求探討各種解(jie)決(jue)方案。